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簡要描述：VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現(xiàn)往復運動，由調(diào)頻電機控制，自動同步運行，且往復位置和運動速度均可以設定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實現(xiàn)原點復位。可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-11-26訪 問 量：191詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 電子/電池,鋼鐵/金屬,綜合 |
產(chǎn)品簡介
VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現(xiàn)往復運動，由調(diào)頻電機控制，自動同步運行，且往復位置和運動速度均可以設定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實現(xiàn)原點復位。可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng)可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
主要特點
由傳遞室和濺射鍍膜室兩大部分組成，可實現(xiàn)快速連續(xù)的進樣濺射鍍膜。
可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
可制備多種薄膜，應用廣泛。
體積小，操作簡便。
整機模塊化設計，傳遞室、真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。
技術參數(shù)
產(chǎn)品名稱 | VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng) |
產(chǎn)品型號 | VTC-600GC-AM |
主要參數(shù) | 1、結(jié)構(gòu)：臺式前開門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)。 |
2、極限真空：6.0X10-5Pa。 | |
3、漏率：1h≤0.5Pa。 | |
4、抽氣時間大氣至5.0X10-3約5分鐘。 | |
5、真空泵組：機械泵+分子泵。 | |
6、樣品臺:φ140、室溫-500℃、精度±1℃ （可根據(jù)實際需要提升溫度） 自轉(zhuǎn)5rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)。 可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能， 以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 | |
7、加氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量計2路。 （氬氣/氮氣各一路） | |
8、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° | |
9、靶頭數(shù)量：3個（互成120°）。（可定制更多數(shù)量） | |
10、 靶槍冷卻方式：水冷 | |
11、靶材尺寸：φ2″，厚度0.1-5mm （因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） |
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