主要特點

1、磁控濺射和電阻蒸發(fā)雙應用。本機采用可磁控濺射與電阻蒸發(fā)免拆卸轉換結構，可快速實現(xiàn)蒸發(fā)源的轉換。
2、桌面小型一體化結構。本機對真空腔體、鍍膜電源及控制系統(tǒng)進行整合設計，體積與一臺A3 打印機相仿（不包含真空機組，480x320x460mm，寬X 高X 深）
3、單、三靶濺射。本機的磁控濺射單元裝有三支2 英寸磁控靶或一支3 英寸磁控靶。以適應不同用戶的需求。三靶濺射單元裝有靶擋板及靶切換半開關，并與擋板聯(lián)動。
4、高性能開關式直流濺射電源。本機配裝我公司自行研制的高性能濺射用直流電流，由于采用開關電源所以對濺射過程中產生的弧光放電具有非常強的抑制作用；電源還具有恒流和恒功率兩種濺射工作方式，以適用不同用
戶的需求。
5、雙蒸發(fā)源。蒸發(fā)單元中裝有兩組蒸發(fā)電極可安裝不同的蒸發(fā)源，適應相應的鍍膜材料。
6、高穩(wěn)定度恒流蒸發(fā)電源。本機配裝0.1%精度蒸發(fā)電源，并具有恒流輸出功能，對蒸發(fā)舟能起到很好的保護作用。
7、鍍膜厚度與速率控制。本鍍膜機可選配本公司研制石英晶體膜厚控制儀，在鍍膜過程中可對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。
8、數(shù)據記錄。鍍膜機可將采集到的鍍膜數(shù)據保存到U 盤，便于用戶分析控制(選配)。
9、模塊化設計。本機將所有功能單設計成標準化模塊，根據用戶不的需求對相應模塊進行組合。以達到優(yōu)良的鍍膜環(huán)境。并便于用戶維修與維護。
10、圖形化操作界面及觸屏控制。本機操作控制采用7 英寸TFT 顯示屏顯示操作界面，觸屏操作，實現(xiàn)全圖形化界面，易用易懂。

技術參數(shù)

1、濺射靶規(guī)格： 2 英寸/3 支（帶擋板）或3 英寸1 支

2、蒸發(fā)電源功率： 1000W/5V/200A
3、蒸發(fā)電極有效距離： 55mm

4、樣品臺規(guī)格: 直徑150mm(可選配旋轉、擋板和偏壓功能)

5、供電電壓： AC220V/2000W
6、濺射電源功率： 500W/600V

7、膜厚測量精度： 0.1? 或0.01?（高精度型）
8、充氣流量: 50SCCM/100SCCM(兩路選配)
9、氣源壓力:<0.15KPa
10、外接真空機組: 2 升(AC220V)可選配國產擴散泵機組、國產機組或進口機組。
11、真空接口規(guī)格： KF40
12、極限真空度: >2.0x10-3Pa、2.0x10-4Pa
13、工作真空度: 3~0.5Pa（磁控）
14、冷卻水壓力: 0.2~0.4Kpa
15、使用環(huán)境溫度:<35℃
16、使用環(huán)境濕度:<75%(相對濕度)不結露
17、使用環(huán)境海拔:<1500m

產品規(guī)格

1、外型尺寸: 480x320x460(寬x 高x 深)不包含真空泵
2、重量: 約47Kg 不包含真空泵